TFE4146 Halvleder­komponenter Interaktiv pensumguide · H2026
Fremgang
0/7

04

Overskuddsbærere og diffusjon

Kjernepensum

Overskuddsbærere

Nesten alle komponenter virker ved at det finnes flere bærere enn likevekten gir. Lys med hν≥Egh\nu \ge E_g absorberes og lager par, med intensiteten fallende som e−αxe^{-\alpha x} innover i materialet. Bærere kan også sprøytes inn over en kontakt. Uansett kilde skriver vi n=n0+δnn = n_0 + \delta n og p=p0+δpp = p_0 + \delta p, og siden parene lages og forsvinner parvis, er δn=δp\delta n = \delta p.

I mørket balanserer generasjonen g(T)=arni2g(T) = a_r n_i^2 rekombinasjonen arn0p0a_r n_0 p_0. Med overskudd rekombinerer det raskere enn det genereres:

d δndt=arni2−ar(n0+δn)(p0+δp)=−ar[(n0+p0) δn+δn2]\begin{aligned} \frac{d\,\delta n}{dt} &= a_r n_i^2 - a_r(n_0 + \delta n)(p_0 + \delta p) \\ &= -a_r\left[(n_0 + p_0)\,\delta n + \delta n^2\right] \end{aligned}

Ved lav injeksjon er δn\delta n liten mot majoritetskonsentrasjonen, så δn2\delta n^2 kan strykes, og i p-type materiale er n0n_0 ubetydelig ved siden av p0p_0. Det som står igjen, er en lineær ligning med eksponentiell løsning:

δn(t)=Δn e−arp0t=Δn e−t/τn\delta n(t) = \Delta n\, e^{-a_r p_0 t} = \Delta n\, e^{-t/\tau_n}

med τn=1/arp0\tau_n = 1/a_r p_0.

τn\tau_n er levetiden til minoritetsbærerne; den generelle formen 1/ar(n0+p0)1/a_r(n_0 + p_0) står i Formelsamlingen. Majoriteten faller med samme rate, siden bærerne forsvinner parvis, men for den er δp\delta p en liten korreksjon på p0p_0.

I Si og Ge er direkte rekombinasjon sjelden. Nesten all rekombinasjon går via rekombinasjonssentre, urenheter og defekter med et nivå ErE_r inne i gapet. Et senter under EFE_F er fylt, og fanger først et hull og deretter et elektron; energien går til gitteret som varme i to steg. Slipper senteret den første bæreren tilbake til båndet før den andre kommer, er det en felle. Nivåer nær midten av gapet, som gull i Si med 0,54 eV, holder på det de fanger, så de er effektive rekombinasjonssentre. Levetiden i Si settes derfor av renheten.

Kvasi-Fermi-nivåer

Med jevnt lys på prøven legges den optiske generasjonen gopg_\text{op} til den termiske, og konsentrasjonene stiller seg inn der rekombinasjonen tar unna begge. Ved lav injeksjon gir samme regning som over at overskuddet er generasjonsraten ganger levetiden, δn=δp=gopτn\delta n = \delta p = g_\text{op}\tau_n. Nå er np≠ni2np \ne n_i^2, og EFE_F har ingen mening. Vi beholder formen på likevektsuttrykkene ved å gi hver bærertype sitt eget nivå:

n=ni e(Fn−Ei)/kBT,p=ni e(Ei−Fp)/kBTn = n_i\, e^{(F_n - E_i)/k_BT}, \qquad p = n_i\, e^{(E_i - F_p)/k_BT}

FnF_n og FpF_p er kvasi-Fermi-nivåene. I likevekt faller de sammen med EFE_F, og avstanden Fn−FpF_n - F_p måler hvor langt materialet er fra likevekt. Et gitt overskudd flytter minoritetsnivået langt og majoritetsnivået nesten ikke, siden overskuddet er mange tierpotenser for minoriteten og en brøkdel for majoriteten.

Regneeksempel hvor havner kvasi-Fermi-nivåene i belyst Si?

En Si-prøve med n0=1014n_0 = 10^{14} cm⁻³ og τn=τp=2\tau_n = \tau_p = 2 µs belyses så det lages 101910^{19} par per cm³ og sekund. Finn nn, pp og de to nivåene ved 300 K.

Vis løsning Skjul løsning
  • Overskuddet: δn=δp=gopτn\delta n = \delta p = g_\text{op}\tau_n, altså 1019⋅2×10−6=2×101310^{19} \cdot 2 \times 10^{-6} = 2 \times 10^{13} cm⁻³.
  • Majoriteten: n=1,2×1014n = 1{,}2 \times 10^{14} cm⁻³, 20 % over n0n_0.
  • Minoriteten: p0=ni2/n0=2,25×106p_0 = n_i^2/n_0 = 2{,}25 \times 10^{6} cm⁻³ i mørket, mot p=2×1013p = 2 \times 10^{13} cm⁻³ i lyset.
  • Fn−Ei=kBTln⁡(n/ni)F_n - E_i = k_BT\ln(n/n_i), altså 0,0259⋅ln⁡(8×103)=0,2330{,}0259 \cdot \ln(8 \times 10^{3}) = 0{,}233 eV.
  • Ei−Fp=kBTln⁡(p/ni)E_i - F_p = k_BT\ln(p/n_i), altså 0,0259⋅ln⁡(1,3×103)=0,1860{,}0259 \cdot \ln(1{,}3 \times 10^{3}) = 0{,}186 eV.
Svar
FnF_n ligger 0,2330{,}233 eV over EiE_i, bare 5 meV over likevektsnivået EFE_F på 0,2280{,}228 eV. FpF_p ligger 0,1860{,}186 eV under EiE_i, mens EFE_F lå over. Hullene har økt sju tierpotenser, elektronene 20 %, og Fn−Fp=0,42F_n - F_p = 0{,}42 eV.
Kvasi-Fermi-nivåene i belyst n-type Si

Velg doping og lysstyrke. Til venstre står båndskjemaet med EFE_F i mørket og FnF_n og FpF_p i lyset, og klammen er splittingen Fn−FpF_n - F_p. Til høyre står nn og pp som stolper på logaritmisk skala, med likevektsverdiene n0n_0 og p0p_0 merket. Majoritetsnivået rører seg knapt, minoritetsnivået flytter seg mange kBTk_BT.

Diffusjon

Der konsentrasjonen varierer, gir den tilfeldige bevegelsen alene en netto strøm av bærere fra høy til lav konsentrasjon. Del xx-aksen i biter på én midlere fri veilengde ll. Av bærerne i biten til venstre for x0x_0 krysser halvparten mot høyre i løpet av τ\tau, og av bærerne til høyre krysser halvparten mot venstre. Nettofluksen er l2τ(n1−n2)\tfrac{l}{2\tau}(n_1 - n_2), og med n1−n2=−l dn/dxn_1 - n_2 = -l\,dn/dx:

ϕn=−Dndndx,Dn=l22τ\phi_n = -D_n\frac{dn}{dx}, \qquad D_n = \frac{l^2}{2\tau}

DnD_n er diffusjonskoeffisienten, med enhet cm²/s. Hull diffunderer på samme måte med DpD_p. Elektroner og hull i samme gradient beveger seg samme vei, men ladningene har motsatt fortegn, så diffusjonsstrømmene går hver sin vei:

Jndiff=+qDndndx,Jpdiff=−qDpdpdxJ_n^\text{diff} = +qD_n\frac{dn}{dx}, \qquad J_p^\text{diff} = -qD_p\frac{dp}{dx}

Med felt og gradient samtidig har hver strøm et driftledd og et diffusjonsledd:

Jn=qμnn E+qDndndxJp=qμpp E−qDpdpdx\begin{aligned} J_n &= q\mu_n n\,\mathcal{E} + qD_n\frac{dn}{dx} \\ J_p &= q\mu_p p\,\mathcal{E} - qD_p\frac{dp}{dx} \end{aligned}

Driftleddet er proporsjonalt med konsentrasjonen, så minoritetsbærerne bidrar lite til drift. Diffusjonsleddet er proporsjonalt med gradienten, og den kan være stor selv om konsentrasjonen er liten. Minoritetsstrømmen i en komponent er derfor nesten alltid diffusjon.

Et felt vises i båndskjemaet som skrå bånd. Elektronets potensielle energi øker langs feltet, så EcE_c, EvE_v og EiE_i stiger i feltretningen, og stigningen er feltet: E(x)=1qdEidx\mathcal{E}(x) = \dfrac{1}{q}\dfrac{dE_i}{dx}. Elektroner driver nedover i skjemaet, hull oppover, og E\mathcal{E} peker oppoverbakke.

Einstein-relasjonen

I likevekt er strømmen null, og likevel kan konsentrasjonen variere med xx, for eksempel i en krystall med dopinggradient. Da må diffusjonen balanseres av drift i et innebygd felt, og kravet knytter DD til μ\mu.

Hvorfor D og μ ikke er uavhengige

Sett Jp=0J_p = 0: μpp E=Dp dp/dx\mu_p p\,\mathcal{E} = D_p\,dp/dx. Skriv pp med EiE_i-formen, p=nie(Ei−EF)/kBTp = n_i e^{(E_i - E_F)/k_BT}, og deriver:

dpdx=pkBT(dEidx−dEFdx)=pkBT qE\frac{dp}{dx} = \frac{p}{k_BT}\left(\frac{dE_i}{dx} - \frac{dE_F}{dx}\right) = \frac{p}{k_BT}\,q\mathcal{E}

Her er dEF/dx=0dE_F/dx = 0 fordi Fermi-nivået er flatt i likevekt, og dEi/dx=qEdE_i/dx = q\mathcal{E} fra båndskjemaet. Sett inn, og p Ep\,\mathcal{E} forkortes:

Dpμp=kBTq\frac{D_p}{\mu_p} = \frac{k_BT}{q}

Samme regning for elektroner gir samme forhold.

Einstein-relasjonen sier at D/μ=kBT/q=0,0259D/\mu = k_BT/q = 0{,}0259 V ved romtemperatur, uansett bærertype og materiale. For Si gir det Dn=35D_n = 35 og Dp=12,5D_p = 12{,}5 cm²/s, og måler du den ene, har du den andre.

Kontinuitetsligningen

Ta en skive med tykkelse Δx\Delta x og areal AA. Hullkonsentrasjonen i den øker når det strømmer inn flere hull enn det strømmer ut, og minker ved rekombinasjon. Strømtetthet delt på qq er partikkelfluks, så i grensen Δx→0\Delta x \to 0:

∂ δp∂t=−1q∂Jp∂x−δpτp\frac{\partial\,\delta p}{\partial t} = -\frac{1}{q}\frac{\partial J_p}{\partial x} - \frac{\delta p}{\tau_p}

For elektroner bytter det første leddet fortegn, siden ladningen er negativ. Det er kontinuitetsligningen: det som strømmer inn og ikke ut igjen, er enten lagret eller rekombinert.

Er strømmen ren diffusjon, setter vi inn JndiffJ_n^\text{diff} og får diffusjonsligningen:

∂ δn∂t=Dn∂2 δn∂x2−δnτn\frac{\partial\,\delta n}{\partial t} = D_n\frac{\partial^2\,\delta n}{\partial x^2} - \frac{\delta n}{\tau_n}

Krumningen i profilen jevner den ut, og levetiden tømmer den. En puls av overskuddsbærere brer seg derfor utover og forsvinner samtidig, og hvor langt den rekker, avgjøres av DD og τ\tau sammen.

Stasjonær injeksjon og diffusjonslengde

I mange komponenter holdes overskuddet konstant i tid, for eksempel av en kontakt som sprøyter hull inn i enden av en n-type stav. Da er tidsleddet i diffusjonsligningen null, og det som står igjen er

d2 δpdx2=δpDpτp=δpLp2\frac{d^2\,\delta p}{dx^2} = \frac{\delta p}{D_p\tau_p} = \frac{\delta p}{L_p^2}

med diffusjonslengden Lp=DpτpL_p = \sqrt{D_p\tau_p}. Løsningen er en sum av ex/Lpe^{x/L_p} og e−x/Lpe^{-x/L_p}. I en lang stav må overskuddet dø ut langt fra kontakten, så den voksende delen faller bort, og med δp(0)=Δp\delta p(0) = \Delta p ved kontakten står det igjen

δp(x)=Δp e−x/Lp\delta p(x) = \Delta p\, e^{-x/L_p}

LpL_p er avstanden der overskuddet har falt til 1/e1/e, og også gjennomsnittsavstanden et hull diffunderer før det rekombinerer. For Si med Dp=12,5D_p = 12{,}5 cm²/s og τp=1\tau_p = 1 µs er Lp=35L_p = 35 µm, altså mange ganger bredden av romladningssonen i en pn-overgang.

Hvorfor diffusjonslengden er gjennomsnittsavstanden

Sannsynligheten for at et hull injisert ved x=0x = 0 når fram til xx uten å rekombinere, er δp(x)/Δp=e−x/Lp\delta p(x)/\Delta p = e^{-x/L_p}. Sannsynligheten for at det så rekombinerer i det neste intervallet dxdx er andelen av profilen som forsvinner der:

δp(x)−δp(x+dx)δp(x)=−1δpd δpdx dx=dxLp\begin{aligned} \frac{\delta p(x) - \delta p(x + dx)}{\delta p(x)} &= -\frac{1}{\delta p}\frac{d\,\delta p}{dx}\,dx \\ &= \frac{dx}{L_p} \end{aligned}

Produktet e−x/Lp dx/Lpe^{-x/L_p}\,dx/L_p er sannsynlighetsfordelingen for hvor hullet rekombinerer, og middelverdien er

⟨x⟩=∫0∞x e−x/LpLp dx=Lp\langle x\rangle = \int_0^\infty x\,\frac{e^{-x/L_p}}{L_p}\,dx = L_p

Diffusjonsstrømmen følger rett fra profilen, siden p0p_0 er konstant og bare overskuddet har gradient:

Jp(x)=−qDpd δpdx=qDpLp δp(x)J_p(x) = -qD_p\frac{d\,\delta p}{dx} = q\frac{D_p}{L_p}\,\delta p(x)

Strømmen i hvert punkt er proporsjonal med overskuddet der, og ved kontakten er den qDpΔp/LpqD_p\Delta p/L_p. Ladningen som er lagret i staven, er arealet under profilen, Qp=qA Δp LpQ_p = qA\,\Delta p\,L_p. Begge uttrykkene kommer igjen i pn-overgangen, der spenningen sprøyter minoritetsbærere inn på hver side.

Regneeksempel hvor langt kommer de injiserte hullene?

Hull sprøytes inn i enden av en lang n-type Si-stav med Nd=1016N_d = 10^{16} cm⁻³, slik at δp(0)=Δp=1014\delta p(0) = \Delta p = 10^{14} cm⁻³ holdes konstant. Bruk Dp=12,5D_p = 12{,}5 cm²/s og τp=1\tau_p = 1 µs. Finn diffusjonslengden, overskuddet 50 µm inne i staven, og strømtettheten ved kontakten.

Vis løsning Skjul løsning
  • Lav injeksjon: Δp=1014≪n0=1016\Delta p = 10^{14} \ll n_0 = 10^{16} cm⁻³, så uttrykkene over gjelder.
  • Diffusjonslengden:
Lp=Dpτp=12,5⋅10−6 cm=3,54×10−3 cm=35 μm\begin{aligned} L_p &= \sqrt{D_p\tau_p} = \sqrt{12{,}5 \cdot 10^{-6}}\ \text{cm} \\ &= 3{,}54 \times 10^{-3}\ \text{cm} = 35\ \mu\text{m} \end{aligned}
  • Overskuddet ved 50 µm:
δp=1014 e−50/35=2,4×1013 cm−3\delta p = 10^{14}\, e^{-50/35} = 2{,}4 \times 10^{13}\ \text{cm}^{-3}
  • Strømtettheten ved kontakten:
DpLp=12,53,54×10−3 cms=3,5×103 cm/sqDpLp=1,6×10−19⋅3,5×103=5,6×10−16 C cm/sJp(0)=qDpLp Δp=5,6×10−16⋅1014=5,6×10−2 A/cm2\begin{aligned} \frac{D_p}{L_p} &= \frac{12{,}5}{3{,}54 \times 10^{-3}}\ \frac{\text{cm}}{\text{s}} \\ &= 3{,}5 \times 10^{3}\ \text{cm/s} \\ q\frac{D_p}{L_p} &= 1{,}6 \times 10^{-19} \cdot 3{,}5 \times 10^{3} \\ &= 5{,}6 \times 10^{-16}\ \text{C\,cm/s} \\ J_p(0) &= q\frac{D_p}{L_p}\,\Delta p \\ &= 5{,}6 \times 10^{-16} \cdot 10^{14} \\ &= 5{,}6 \times 10^{-2}\ \text{A/cm}^2 \end{aligned}
Svar

Lp=35L_p = 35 µm, δp(50 μm)=2,4×1013\delta p(50\ \mu\text{m}) = 2{,}4 \times 10^{13} cm⁻³ og Jp(0)=56J_p(0) = 56 mA/cm².

Haynes–Shockley-eksperimentet

Drift og diffusjon av minoritetsbærere kan måles direkte. En lysblink lager en puls av hull ved x=0x = 0 i en n-type stav med et felt E\mathcal{E} langs staven. Pulsen driver med feltet, brer seg ut ved diffusjon og passerer en detektor ved x=Lx = L etter drifttiden tdt_d. Drifttiden gir mobiliteten:

vd=Ltd,μp=vdEv_d = \frac{L}{t_d}, \qquad \mu_p = \frac{v_d}{\mathcal{E}}

Hall-målingen gir mobiliteten til majoriteten; dette er måten å måle minoritetens på.

Bredden på pulsen gir DpD_p. Uten felt og uten rekombinasjon løses diffusjonsligningen av en gaussisk puls,

δp(x,t)=ΔP2πDpt e−x2/4Dpt\delta p(x,t) = \frac{\Delta P}{2\sqrt{\pi D_p t}}\, e^{-x^2/4D_p t}

der ΔP\Delta P er antall hull per areal i pulsen ved t=0t = 0. Toppen synker og bredden vokser med tiden. Ved tdt_d er pulsen falt til 1/e1/e av toppen i x=±Δx/2x = \pm\Delta x/2, og det gir

Dp=(Δx)216 tdD_p = \frac{(\Delta x)^2}{16\,t_d}

Oscilloskopet viser pulsen i tid, så bredden Δt\Delta t regnes om med driftfarten: Δx=vd Δt\Delta x = v_d\,\Delta t. Feltet flytter hele pulsen med vdtv_d t uten å endre formen, og rekombinasjonen krymper den med faktoren e−t/τpe^{-t/\tau_p}.

Hullpulsen fra lysblinket til detektoren

Dra i feltet, avstanden og levetiden. Øverst er staven. De blå prikkene er elektronene i n-type Si, de røde er pulsen av hull som lysblinket lager ved x=0x = 0. Pulsen drifter mot høyre med vd=μpEv_d = \mu_p\mathcal{E}. Den brer seg ut ved diffusjon, og klammen Δx\Delta x spenner 1/e1/e-bredden. Underveis tynnes den ut med e−t/τpe^{-t/\tau_p}, så prikkene blir færre før den når kontakten i den andre enden. Nederst sveiper oscilloskopet mens pulsen drifter, så kurven stiger i det pulsen når detektoren ved x=Lx = L. Drifttiden tdt_d gir μp=L/tdE\mu_p = L/t_d\mathcal{E}, og bredden Δt\Delta t mellom 1/e1/e-punktene gir Dp=(vd Δt)2/16tdD_p = (v_d\,\Delta t)^2/16t_d. Tidsaksen og den loddrette skalaen står fast. Et sterkere felt flytter pulsen mot venstre på tidsaksen og gjør den smalere. Lengre avstand flytter den mot høyre og gjør den bredere. Kortere levetid senker toppen uten å flytte den eller bre den ut. Tettheten av prikker er ikke i skala med noen konsentrasjon.

Sjekk deg selv

n-type Si belyses jevnt med lav injeksjon. Hvilket av kvasi-Fermi-nivåene flytter seg mest fra EFE_F?
Både nn og pp faller mot høyre, og det er ikke noe felt. Hvilken retning har partikkelstrømmene og de elektriske strømmene?
Oppdatert 27. september 2026 Foreslå endring