Nesten alle komponenter virker ved at det finnes flere bærere enn likevekten
gir. Lys med hν≥Eg absorberes og lager par, med intensiteten fallende
som e−αx innover i materialet. Bærere kan også sprøytes inn over en
kontakt. Uansett kilde skriver vi n=n0+δn og p=p0+δp,
og siden parene lages og forsvinner parvis, er δn=δp.
I mørket balanserer generasjonen g(T)=arni2 rekombinasjonen
arn0p0. Med overskudd rekombinerer det raskere enn det genereres:
Ved lav injeksjon er δn liten mot
majoritetskonsentrasjonen, så δn2 kan strykes, og i p-type materiale
er n0 ubetydelig ved siden av p0. Det som står igjen, er en lineær
ligning med eksponentiell løsning:
δn(t)=Δne−arp0t=Δne−t/τn
med τn=1/arp0.
τn er levetiden til minoritetsbærerne;
den generelle formen 1/ar(n0+p0) står i
Formelsamlingen. Majoriteten faller med
samme rate, siden bærerne forsvinner parvis, men for den er δp en
liten korreksjon på p0.
I Si og Ge er direkte rekombinasjon sjelden. Nesten all rekombinasjon går via
rekombinasjonssentre, urenheter og
defekter med et nivå Er inne i gapet. Et senter under EF er fylt, og
fanger først et hull og deretter et elektron; energien går til gitteret som
varme i to steg. Slipper senteret den første bæreren tilbake til båndet før
den andre kommer, er det en felle. Nivåer nær
midten av gapet, som gull i Si med 0,54 eV, holder på det de fanger, så de
er effektive rekombinasjonssentre. Levetiden i Si settes derfor av renheten.
Kvasi-Fermi-nivåer
Med jevnt lys på prøven legges den optiske generasjonen gop til den
termiske, og konsentrasjonene stiller seg inn der rekombinasjonen tar unna
begge. Ved lav injeksjon gir samme regning som over at overskuddet er
generasjonsraten ganger levetiden,
δn=δp=gopτn.
Nå er np=ni2, og EF har ingen mening. Vi beholder formen på
likevektsuttrykkene ved å gi hver bærertype sitt eget nivå:
n=nie(Fn−Ei)/kBT,p=nie(Ei−Fp)/kBT
Fn og Fp er kvasi-Fermi-nivåene.
I likevekt faller de sammen med EF, og avstanden Fn−Fp måler hvor
langt materialet er fra likevekt. Et gitt overskudd flytter minoritetsnivået
langt og majoritetsnivået nesten ikke, siden overskuddet er mange tierpotenser
for minoriteten og en brøkdel for majoriteten.
Regneeksempel hvor havner kvasi-Fermi-nivåene i belyst Si?
En Si-prøve med n0=1014 cm⁻³ og τn=τp=2 µs belyses så
det lages 1019 par per cm³ og sekund. Finn n, p og de to nivåene
ved 300 K.
Vis løsningSkjul løsning
Overskuddet: δn=δp=gopτn, altså 1019⋅2×10−6=2×1013 cm⁻³.
Majoriteten: n=1,2×1014 cm⁻³, 20 % over n0.
Minoriteten: p0=ni2/n0=2,25×106 cm⁻³ i mørket, mot p=2×1013 cm⁻³ i lyset.
Fn−Ei=kBTln(n/ni), altså 0,0259⋅ln(8×103)=0,233 eV.
Ei−Fp=kBTln(p/ni), altså 0,0259⋅ln(1,3×103)=0,186 eV.
Svar
Fn ligger 0,233 eV over Ei, bare 5 meV over likevektsnivået EF på 0,228 eV. Fp ligger 0,186 eV under Ei, mens EF lå over. Hullene har økt sju tierpotenser, elektronene 20 %, og Fn−Fp=0,42 eV.
Kvasi-Fermi-nivåene i belyst n-type Si
Velg doping og lysstyrke. Til venstre står båndskjemaet med EF i mørket og Fn og Fp i lyset, og klammen er splittingen Fn−Fp. Til høyre står n og p som stolper på logaritmisk skala, med likevektsverdiene n0 og p0 merket. Majoritetsnivået rører seg knapt, minoritetsnivået flytter seg mange kBT.
Diffusjon
Der konsentrasjonen varierer, gir den tilfeldige bevegelsen alene en netto
strøm av bærere fra høy til lav konsentrasjon. Del x-aksen i biter på én
midlere fri veilengde l. Av bærerne i biten til venstre for x0 krysser
halvparten mot høyre i løpet av τ, og av bærerne til høyre krysser
halvparten mot venstre. Nettofluksen er 2τl(n1−n2), og med
n1−n2=−ldn/dx:
ϕn=−Dndxdn,Dn=2τl2
Dn er diffusjonskoeffisienten,
med enhet cm²/s. Hull diffunderer på samme måte med Dp. Elektroner og hull
i samme gradient beveger seg samme vei, men ladningene har motsatt fortegn,
så diffusjonsstrømmene går
hver sin vei:
Jndiff=+qDndxdn,Jpdiff=−qDpdxdp
Med felt og gradient samtidig har hver strøm et driftledd og et
diffusjonsledd:
JnJp=qμnnE+qDndxdn=qμppE−qDpdxdp
Driftleddet er proporsjonalt med konsentrasjonen, så minoritetsbærerne
bidrar lite til drift. Diffusjonsleddet er proporsjonalt med gradienten, og
den kan være stor selv om konsentrasjonen er liten. Minoritetsstrømmen i en
komponent er derfor nesten alltid diffusjon.
Et felt vises i båndskjemaet som skrå bånd. Elektronets potensielle energi
øker langs feltet, så Ec, Ev og Ei stiger i feltretningen, og
stigningen er feltet: E(x)=q1dxdEi. Elektroner driver
nedover i skjemaet, hull oppover, og E peker oppoverbakke.
Einstein-relasjonen
I likevekt er strømmen null, og likevel kan konsentrasjonen variere med x,
for eksempel i en krystall med dopinggradient. Da må diffusjonen balanseres
av drift i et innebygd felt, og kravet
knytter D til μ.
Hvorfor D og μ ikke er uavhengige
Sett Jp=0: μppE=Dpdp/dx. Skriv p med
Ei-formen, p=nie(Ei−EF)/kBT, og deriver:
Einstein-relasjonen sier at
D/μ=kBT/q=0,0259 V ved romtemperatur, uansett bærertype og
materiale. For Si gir det Dn=35 og Dp=12,5 cm²/s, og måler du den
ene, har du den andre.
Kontinuitetsligningen
Ta en skive med tykkelse Δx og areal A. Hullkonsentrasjonen i den
øker når det strømmer inn flere hull enn det strømmer ut, og minker ved
rekombinasjon. Strømtetthet delt på q er partikkelfluks, så i grensen
Δx→0:
∂t∂δp=−q1∂x∂Jp−τpδp
For elektroner bytter det første leddet fortegn, siden ladningen er negativ.
Det er kontinuitetsligningen: det
som strømmer inn og ikke ut igjen, er enten lagret eller rekombinert.
Er strømmen ren diffusjon, setter vi inn Jndiff og får
diffusjonsligningen:
∂t∂δn=Dn∂x2∂2δn−τnδn
Krumningen i profilen jevner den ut, og levetiden tømmer den. En puls av
overskuddsbærere brer seg derfor utover og forsvinner samtidig, og hvor
langt den rekker, avgjøres av D og τ sammen.
Stasjonær injeksjon og diffusjonslengde
I mange komponenter holdes overskuddet konstant i tid, for eksempel av en
kontakt som sprøyter hull inn i enden av en n-type stav. Da er tidsleddet i
diffusjonsligningen null, og det som står igjen er
dx2d2δp=Dpτpδp=Lp2δp
med diffusjonslengdenLp=Dpτp. Løsningen er en sum av ex/Lp og
e−x/Lp. I en lang stav må overskuddet dø ut langt fra kontakten, så
den voksende delen faller bort, og med δp(0)=Δp ved
kontakten står det igjen
δp(x)=Δpe−x/Lp
Lp er avstanden der overskuddet har falt til 1/e, og også
gjennomsnittsavstanden et hull diffunderer før det rekombinerer. For Si med
Dp=12,5 cm²/s og τp=1 µs er Lp=35 µm, altså mange ganger
bredden av romladningssonen i en pn-overgang.
Hvorfor diffusjonslengden er gjennomsnittsavstanden
Sannsynligheten for at et hull injisert ved x=0 når fram til x uten å
rekombinere, er δp(x)/Δp=e−x/Lp. Sannsynligheten for at
det så rekombinerer i det neste intervallet dx er andelen av profilen som
forsvinner der:
δp(x)δp(x)−δp(x+dx)=−δp1dxdδpdx=Lpdx
Produktet e−x/Lpdx/Lp er sannsynlighetsfordelingen for hvor hullet
rekombinerer, og middelverdien er
⟨x⟩=∫0∞xLpe−x/Lpdx=Lp
Diffusjonsstrømmen følger rett fra profilen, siden p0 er konstant og
bare overskuddet har gradient:
Jp(x)=−qDpdxdδp=qLpDpδp(x)
Strømmen i hvert punkt er proporsjonal med overskuddet der, og ved kontakten
er den qDpΔp/Lp. Ladningen som er lagret i staven, er arealet
under profilen, Qp=qAΔpLp.
Begge uttrykkene kommer igjen i pn-overgangen, der spenningen sprøyter
minoritetsbærere inn på hver side.
Regneeksempel hvor langt kommer de injiserte hullene?
Hull sprøytes inn i enden av en lang n-type Si-stav med Nd=1016
cm⁻³, slik at δp(0)=Δp=1014 cm⁻³ holdes konstant. Bruk
Dp=12,5 cm²/s og τp=1 µs. Finn diffusjonslengden,
overskuddet 50 µm inne i staven, og strømtettheten ved kontakten.
Vis løsningSkjul løsning
Lav injeksjon: Δp=1014≪n0=1016 cm⁻³, så uttrykkene over gjelder.
Lp=35 µm, δp(50μm)=2,4×1013 cm⁻³ og
Jp(0)=56 mA/cm².
Haynes–Shockley-eksperimentet
Drift og diffusjon av minoritetsbærere kan måles direkte. En lysblink lager
en puls av hull ved x=0 i en n-type stav med et felt E
langs staven. Pulsen driver med feltet, brer seg ut ved diffusjon og
passerer en detektor ved x=L etter drifttiden td. Drifttiden gir
mobiliteten:
vd=tdL,μp=Evd
Hall-målingen gir mobiliteten til majoriteten; dette er måten å måle
minoritetens på.
Bredden på pulsen gir Dp. Uten felt og uten rekombinasjon løses
diffusjonsligningen av en gaussisk puls,
δp(x,t)=2πDptΔPe−x2/4Dpt
der ΔP er antall hull per areal i pulsen ved t=0. Toppen
synker og bredden vokser med tiden. Ved td er pulsen falt til 1/e av
toppen i x=±Δx/2, og det gir
Dp=16td(Δx)2
Oscilloskopet viser pulsen i tid, så bredden Δt regnes om med
driftfarten: Δx=vdΔt. Feltet flytter hele pulsen med
vdt uten å endre formen, og rekombinasjonen krymper den med faktoren
e−t/τp.
Hullpulsen fra lysblinket til detektoren
Dra i feltet, avstanden og levetiden. Øverst er staven. De blå prikkene er elektronene i n-type Si, de røde er pulsen av hull som lysblinket lager ved x=0. Pulsen drifter mot høyre med vd=μpE. Den brer seg ut ved diffusjon, og klammen Δx spenner 1/e-bredden. Underveis tynnes den ut med e−t/τp, så prikkene blir færre før den når kontakten i den andre enden. Nederst sveiper oscilloskopet mens pulsen drifter, så kurven stiger i det pulsen når detektoren ved x=L. Drifttiden td gir μp=L/tdE, og bredden Δt mellom 1/e-punktene gir Dp=(vdΔt)2/16td. Tidsaksen og den loddrette skalaen står fast. Et sterkere felt flytter pulsen mot venstre på tidsaksen og gjør den smalere. Lengre avstand flytter den mot høyre og gjør den bredere. Kortere levetid senker toppen uten å flytte den eller bre den ut. Tettheten av prikker er ikke i skala med noen konsentrasjon.