TFE4146 Halvleder­komponenter Interaktiv pensumguide · H2026
Fremgang
0/7

02

Bærerkonsentrasjoner ved likevekt

Kjernepensum

Fermi–Dirac-fordelingen

Majoritetskonsentrasjonen i dopet materiale er grei: én bærer per ionisert dopant. Minoritetskonsentrasjonen og temperaturavhengigheten er ikke like synlige, og for å få tak i dem må vi vite hvordan elektronene fordeler seg over tilstandene som finnes.

Elektroner er identiske, har bølgenatur og lyder Pauli-prinsippet. Fordelingen som følger av de tre kravene, er Fermi–Dirac-fordelingen:

f(E)=11+e(E−EF)/kBTf(E) = \frac{1}{1 + e^{(E - E_F)/k_BT}}

f(E)f(E) er sannsynligheten for at en tillatt tilstand med energi EE er okkupert ved termisk likevekt, og kBk_B er Boltzmanns konstant, 8,62×10−58{,}62 \times 10^{-5} eV/K. Ved romtemperatur er kBT=0,0259k_BT = 0{,}0259 eV. Den ene frie størrelsen i fordelingen er EFE_F.

Ved 0 K er fordelingen en firkant: hver tilstand under EFE_F er fylt, hver tilstand over er tom. Varmer du materialet opp, mykner kanten over noen kBTk_BT, og fordelingen får en hale av fylte tilstander over EFE_F og en tilsvarende hale av tomme under. Mer enn noen tideler av en eV strekker halene seg aldri ved vanlige temperaturer.

f(E)f(E) sier bare noe om tilstander som finnes. I gapet har fordelingen helt vanlige verdier, men ingenting å virke på, så der blir det ingen elektroner uansett.

Fra fordeling til konsentrasjon

Konsentrasjonen av elektroner i ledningsbåndet er sannsynlighet ganger antall plasser, summert over båndet:

n0=∫Ec∞f(E) N(E) dEn_0 = \int_{E_c}^{\infty} f(E)\,N(E)\,dE

Her er tilstandstettheten N(E)N(E) antall tilstander per volum og energienhet. Nær båndkanten vokser den som E−Ec\sqrt{E - E_c}, fra null på selve kanten, mens ff faller eksponentielt. Produktet fNfN er derfor null på kanten, topper seg noen kBTk_BT over og dør ut derfra: elektronene ligger i en tynn stripe like over EcE_c. Hullene ligger tilsvarende i en stripe like under EvE_v, med 1−f1 - f som sannsynlighet og Ev−E\sqrt{E_v - E} som tetthet.

Legg f(E)f(E) på siden, med energiaksen loddrett langs båndskjemaets. Står EFE_F nær midten av gapet, er elektronhalen over EcE_c og hullhalen under EvE_v like store, og materialet er intrinsisk. Skyver dopingen EFE_F oppover, vokser elektronstripen eksponentielt mens hullstripen krymper like fort. Derfor trenger et båndskjema bare én strek for EFE_F: posisjonen gir begge fordelingene.

Fordelingen, tilstandene og bærerne

Dra i EFE_F og temperaturen. Venstre panel er f(E)f(E) med energiaksen loddrett; høyre panel er bærerstripene f(E)N(E)f(E)N(E) og [1−f(E)]N(E)[1-f(E)]N(E), normert til den største og ikke i skala. Merket EiE_i er nivået der stripene blir like store.

Resultatet av integralet kan skrives som om hele båndet var NcN_c tilstander lagt på selve kanten, n0=Ncf(Ec)n_0 = N_c f(E_c), med NcN_c gitt av Nc=2(2πmn∗kBTh2)3/2N_c = 2\left(\dfrac{2\pi m_n^* k_BT}{h^2}\right)^{3/2}. Ligger EFE_F noen kBTk_BT under EcE_c, er eneren i nevneren til ff ubetydelig, og sannsynligheten blir en ren eksponensial. Det er Boltzmann-tilnærmingen, og med den:

n0=Nc e−(Ec−EF)/kBT,p0=Nv e−(EF−Ev)/kBTn_0 = N_c\, e^{-(E_c - E_F)/k_BT}, \qquad \allowbreak p_0 = N_v\, e^{-(E_F - E_v)/k_BT}
Hvordan integralet blir til Boltzmann-uttrykket

Nær kanten er tilstandstettheten N(E)=CE−EcN(E) = C\sqrt{E - E_c}, og med Boltzmann-tilnærmingen er f(E)=e−(E−EF)/kBTf(E) = e^{-(E - E_F)/k_BT}. Sett inn begge:

n0=C∫Ec∞E−Ec  e−(E−EF)/kBT dEn_0 = C \int_{E_c}^{\infty} \sqrt{E - E_c}\; e^{-(E - E_F)/k_BT}\, dE

Trekk den faste faktoren e−(Ec−EF)/kBTe^{-(E_c - E_F)/k_BT} ut av integralet, og bytt variabel til x=(E−Ec)/kBTx = (E - E_c)/k_BT:

n0=C (kBT)3/2 e−(Ec−EF)/kBT∫0∞x e−x dxn_0 = C\,(k_BT)^{3/2}\, e^{-(E_c - E_F)/k_BT} \int_{0}^{\infty} \sqrt{x}\, e^{-x}\, dx

Integralet er et rent tall, π/2\sqrt{\pi}/2. Alt foran eksponensialen er materialkonstanter og T3/2T^{3/2}, og det er NcN_c: sett inn C=4π(2mn∗)3/2/h3C = 4\pi(2m_n^*)^{3/2}/h^3, og Nc=2(2πmn∗kBTh2)3/2N_c = 2\left(\dfrac{2\pi m_n^* k_BT}{h^2}\right)^{3/2} kommer ut. Hullregningen er identisk, med 1−f1 - f og Ev−E\sqrt{E_v - E}.

Begge står i Formelsamlingen. Avstanden fra EFE_F til båndkanten står i eksponenten, og kBTln⁡10≈60k_BT \ln 10 \approx 60 meV ved romtemperatur: hver 60 meV EFE_F flyttes nærmere EcE_c, tidobles n0n_0.

For Si ved 300 K er Nc≈2,9×1019N_c \approx 2{,}9 \times 10^{19} cm⁻³ og Nv≈1,0×1019N_v \approx 1{,}0 \times 10^{19} cm⁻³. Intrinsisk Si har 1,5×10101{,}5 \times 10^{10} bærere per cm³, så hver enkelt tilstand nær kanten er nesten sikkert tom. Det er de enorme antallene tilstander som likevel gjør konsentrasjonene merkbare, og som gjør at små endringer i ff gir store endringer i bærertall.

Massevirkningsloven

Gang de to konsentrasjonene sammen, og EFE_F faller bort:

n0p0=NcNv e−Eg/kBTn_0 p_0 = N_c N_v\, e^{-E_g/k_BT}

Produktet avhenger av materialet og temperaturen, ikke av dopingen. I intrinsisk materiale er n0=p0=nin_0 = p_0 = n_i, så ni=NcNv e−Eg/2kBTn_i = \sqrt{N_cN_v}\,e^{-E_g/2k_BT}, med halve gapet i eksponenten. For Si ved 300 K er ni=1,5×1010n_i = 1{,}5 \times 10^{10} cm⁻³.

Ofte er det lettere å måle EFE_F fra det intrinsiske nivået EiE_i enn fra en båndkant. Bytter du referanse, blir konsentrasjonene n0=nie(EF−Ei)/kBTn_0 = n_i e^{(E_F - E_i)/k_BT} og p0=nie(Ei−EF)/kBTp_0 = n_i e^{(E_i - E_F)/k_BT}: n0n_0 er nin_i når EFE_F står på EiE_i, og vokser eksponentielt når nivået trekker mot ledningsbåndet. EiE_i ligger nær midten av gapet, men ikke nøyaktig. Sett n0=p0n_0 = p_0 i Boltzmann-uttrykkene, og nivået faller ut: EiE_i ligger 12kBTln⁡(Nc/Nv)=34kBTln⁡(mn∗/mp∗)\tfrac{1}{2}k_BT\ln(N_c/N_v) = \tfrac{3}{4}k_BT\ln(m_n^*/m_p^*) under midten, altså midt i gapet bare når Nc=NvN_c = N_v. For Si gir massene omtrent 13 meV ved romtemperatur.

Regneeksempel hvor havner Fermi-nivået når du doper?

En Si-prøve dopes med 101710^{17} As-atomer per cm³, alle ionisert ved 300 K. Finn p0p_0, og plasser EFE_F i forhold til EiE_i.

Vis løsning Skjul løsning
  • Donorene dominerer: n0≈Nd=1017n_0 \approx N_d = 10^{17} cm⁻³.
  • Massevirkningsloven gir minoriteten: p0=ni2/n0=(1,5×1010)2/1017=2,25×103p_0 = n_i^2/n_0 = (1{,}5 \times 10^{10})^2/10^{17} = 2{,}25 \times 10^{3} cm⁻³.
  • Snu n0=nie(EF−Ei)/kBTn_0 = n_i e^{(E_F - E_i)/k_BT}: EF−Ei=kBTln⁡(n0/ni)=0,0259 eV⋅ln⁡(6,7×106)=0,41E_F - E_i = k_BT \ln(n_0/n_i) = 0{,}0259\ \text{eV} \cdot \ln(6{,}7 \times 10^{6}) = 0{,}41 eV.
Svar
p0=2,25×103p_0 = 2{,}25 \times 10^{3} cm⁻³, fjorten tierpotenser under majoriteten, og EFE_F ligger 0,410{,}41 eV over EiE_i, omtrent 0,160{,}16 eV under EcE_c. Det er fortsatt seks kBTk_BT fra kanten, så Boltzmann-tilnærmingen holder.

Effektiv masse for tilstandstetthet

Formelen for NcN_c inneholder én effektiv masse, og ledningsbåndet i Si har flere krumninger å velge mellom. Minimet ligger et stykke ut mot sonegrensen, og krystallen har seks likeverdige retninger å legge det i, så båndet har seks like daler. Flatene med konstant energi rundt hvert minimum er sigarformede ellipsoider: krumningen langs sigaren gir ml=0,98 m0m_l = 0{,}98\,m_0, krumningen på tvers gir mt=0,19 m0m_t = 0{,}19\,m_0.

Tellingen av tilstander skal ha med alle seks dalene og begge krumningene. I NcN_c står massen som (m∗)3/2(m^*)^{3/2}, så bidragene må settes sammen i samme potens, (mn∗)3/2=6 (ml mt2)1/2(m_n^*)^{3/2} = 6\,(m_l\, m_t^2)^{1/2}: et geometrisk middel av krumningsmassene i én dal, ganget med antall daler.

Regneeksempel hvilken masse skal stå i formelen for Si?

Finn den effektive massen for tilstandstetthet for elektroner i Si, med ml=0,98 m0m_l = 0{,}98\,m_0 og mt=0,19 m0m_t = 0{,}19\,m_0.

Vis løsning Skjul løsning
  • Én dal: (mlmt2)1/3=(0,98⋅0,192)1/3=(0,0354)1/3=0,33(m_l m_t^2)^{1/3} = (0{,}98 \cdot 0{,}19^2)^{1/3} = (0{,}0354)^{1/3} = 0{,}33.
  • Seks daler: mn∗=62/3⋅0,33 m0=3,30⋅0,33 m0=1,1 m0m_n^* = 6^{2/3} \cdot 0{,}33\,m_0 = 3{,}30 \cdot 0{,}33\,m_0 = 1{,}1\,m_0.
Svar
mn∗=1,1 m0m_n^* = 1{,}1\,m_0, tyngre enn begge krumningsmassene: seks daler betyr seks ganger så mange tilstander, og det løfter massen over begge krumningene. I GaAs er flatene kuler i én dal, og massen i NcN_c er krumningsmassen selv, 0,067 m00{,}067\,m_0.

Valensbåndtoppen telles på samme måte. Der møtes to bånd med hver sin krumning, lette og tunge hull, og bidragene deres legges sammen; for Si gir det mp∗≈0,55 m0m_p^* \approx 0{,}55\,m_0.

Massen her er til telling. Regner du på hvordan bærerne beveger seg i felt, veies de samme krumningene annerledes, og da er tallet for elektroner i Si 0,26 m00{,}26\,m_0.

Temperaturavhengigheten

Temperaturen står to steder i nin_i: som T3/2T^{3/2} i NcN_c og NvN_v, og i eksponenten e−Eg/2kBTe^{-E_g/2k_BT}. Eksponenten dominerer så grundig at ln⁡ni\ln n_i mot 1/T1/T er praktisk talt en rett linje med stigningstall −Eg/2k-E_g/2k. Slike kurver plottes mot 1000/T1000/T, så temperaturen øker mot venstre. Gapet bestemmer nivåene: ved 300 K er nin_i lik 2,5×10132{,}5 \times 10^{13} cm⁻³ i Ge, 1,5×10101{,}5 \times 10^{10} i Si og 2×1062 \times 10^{6} i GaAs.

Dopet materiale følger nin_i-kurven bare ved de høyeste temperaturene. Ved lave temperaturer sitter donorelektronene fortsatt bundet på donorene; oppvarming ioniserer dem, og i typisk dopet Si er alle donert til ledningsbåndet rundt 100 K. Derfra er n0=Ndn_0 = N_d, flatt over et bredt temperaturområde: ioniseringen er ferdig, og nin_i er ennå mange tierpotenser mindre. Først når nin_i vokser seg opp mot NdN_d, tar de termiske parene over, og materialet oppfører seg intrinsisk uansett doping.

Komponenter skal styres av dopingen, så materialet dopes hardt nok til at det ekstrinsiske platået dekker hele driftsområdet: jo høyere NdN_d, desto høyere temperatur før nin_i tar igjen.

Bærerkonsentrasjonen mot temperaturen

Velg donortetthet. I det tonede feltet til venstre er donorene ennå ikke ionisert; på platået er n0=Ndn_0 = N_d; i feltet til høyre har den stiplede ni(T)n_i(T)-kurven tatt igjen dopingen, og materialet er intrinsisk. Boka tegner det samme mot 1000/T1000/T, med den varme siden mot venstre.

Kompensasjon og ladningsnøytralitet

Et materiale kan inneholde begge slags dopanter samtidig. Med Nd>NaN_d > N_a er det n-type, og EFE_F ligger høyt i gapet, så akseptornivåene er fylt. Elektronene som fyller dem, er tatt fra ledningsbåndet: hver akseptor annullerer én donor, og igjen står n0≈Nd−Nan_0 \approx N_d - N_a. Det kalles kompensasjon, og med Na=NdN_a = N_d er konsentrasjonene tilbake på nin_i og pip_i, i et materiale fullt av dopanter.

Regnskapet bak er ladningsnøytralitet: krystallen er nøytral, så positiv og negativ ladning må balansere,

p0+Nd+=n0+Na−p_0 + N_d^+ = n_0 + N_a^-

Kravet står som én rad i Formelsamlingen. Sammen med massevirkningsloven bestemmer det n0n_0, p0p_0 og EFE_F entydig; EFE_F stiller seg dit begge er oppfylt.

Sjekk deg selv

Du dobler donortettheten i n-type Si og holder temperaturen fast. Hva skjer med hullkonsentrasjonen p0p_0?
En Si-komponent med Nd=1015N_d = 10^{15} cm⁻³ skal virke ved høy temperatur. Hva bestemmer den øvre temperaturgrensen?
Oppdatert 27. september 2026 Foreslå endring